L'histoire de la société HEIDENHAIN et les grandes étapes de développement de ses produits
La société HEIDENHAIN était à l'origine une entreprise de travail du métal créée en 1889 à Berlin par Wilhelm Heidenhain. Elle fabriquait alors des matrices, des panneaux, des divisions de mesure et des échelles graduées. Après sa destruction complète pendant la seconde guerre mondiale, le fils de son fondateur décida de créer la société DR. JOHANNES HEIDENHAIN à Traunreut, en Bavière. Les premiers produits commercialisés par l'entreprise étaient, là encore, des divisions de mesure et des échelles graduées qui permettaient d'afficher le prix sur les balances. Bientôt, les premiers systèmes de mesure de position optiques pour machines-outils furent intégrés dans le programme commercial et le début des années 60 vit l'arrivée des premiers systèmes de mesure linéaire et angulaire à balayage photoélectrique. Ces développements ont ainsi favorisé l’automatisation d'un grand nombre de machines et d'équipements de production.
Au milieu des années 70, HEIDENHAIN devint également un fabricant de systèmes de commande et d'entraînement pour machines-outils qui n'a cessé de gagner en importance depuis.
Dès sa création, l'entreprise a pris une forte orientation technique. Pour protéger cela et pour assurer l’autonomie pérenne de l'entreprise dans le développement continu, le Dr. Johannes Heidenhain décida en 1970 de léguer ses parts de la société à une fondation à but non lucratif. Grâce à cette décision, la société HEIDENHAIN est aujourd'hui en mesure d'investir massivement dans la recherche et le développement.
Historique
1889 | Création de l'entreprise de métal W. HEIDENHAIN à Berlin |
1923 | Le Dr. Johannes Heidenhain intègre l'entreprise familiale. |
1948 | La nouvelle société DR. JOHANNES HEIDENHAIN est créée à Traunreut, en Bavière. |
1950 | Invention du procédé DIADUR qui consiste à déposer des divisions de précision résistantes sur du verre à l'aide d'une copie de la matrice originale |
1970 | Création de la fondation à but non lucratif DR. JOHANNES HEIDENHAIN-STIFTUNG GmbH |
1980 | Décès du Dr. Johannes Heidenhain |
2014 | La société HEIDENHAIN est représentée dans tous les pays industrialisés. |
Projets en métrologie
| 1961 | Microscopes de mesure photoélectriques |
| 1966 | Comparateur interférentiel pour l'institut fédéral allemand de métrologie (PTB – Physikalisch-Technische Bundesanstalt) |
| 1971 | Table de mesure angulaire et appareil de contrôle de disques gradués pour le PTB |
| 1977 | Goniomètre de précision pour le PTB |
| 1989 | Systèmes de mesure angulaire pour le New Technology Telescope (NTT) |
| 1999 | Systèmes de mesure angulaire pour le Very Large Telescope (VLT) |
| 1999 | Règles de mesure pour la comparaison internationale de mesures linéaires NANO 3, entre plusieurs instituts de métrologie nationaux |
| 2001 | Comparateur interférentiel nanométrique pour le PTB |
| 2003 | Comparaison de mesure angulaire entre HEIDENHAIN, le PTB et l'AIST (institut national de recherche du Japon) |
| 2004 | Comparaison de mesure linéaire entre HEIDENHAIN, le PTB et MITUTOYO |
| 2004 | Systèmes de mesure angulaire pour le télescope GRANTECAN (Gran Telescopio CANARIAS) |
| 2005 | Comparaison de mesure angulaire entre HEIDENHAIN et le PTB |
| 2007 | Systèmes de mesure angulaire pour les 25 antennes de l'ALMA (Atacama Large Telescope Array) |
| 2013 | Systèmes de mesure angulaire pour le télescope Daniel K. Inouye Solar (DKIST, anciennement ATST - Advanced Technology Solar Telescope) |
Historique des divisions de mesure
1936 | Règle de mesure en verre d'une précision ± 0,015 mm, copiée par un procédé photo-mécanique |
1943 | Disque gradué copié d'une précision de ± 3 secondes d'arc |
1952 | Les échelles graduées pour balances deviennent la principale source de chiffre d'affaires. |
1967 | Réseaux de phases sans support, microstructures |
1985 | Marques de référence à distances codées pour règles de mesure incrémentales |
1986 | Règles de mesure à réseau de phases |
1995 | Large réseau en grille pour systèmes de mesure à deux coordonnées |
2002 | Structures de réseaux de phases planaires pour systèmes de mesure linéaire interférentiels |
2005 | Réseau d'amplitude insensible aux salissures obtenu par ablation au laser |
2009 | Réseau en grille de grandes dimensions (400 mm x 400 mm) pour les systèmes de mesure utilisés dans l'industrie des semi-conducteurs |
Historique des systèmes de mesure : les systèmes de mesure linéaire à règle nue
1952 | Systèmes de mesure linéaire optiques pour machines-outils |
1961 | Système de mesure linéaire incrémental LID 1, période de division 8 µm / résolution de 2 µm |
1963 | Système de mesure linéaire codé LIC avec 18 pistes, code binaire / résolution de 5 µm |
1965 | Interféromètre à laser pour l'étalonnage des machines-outils |
1987 | Système de mesure linéaire interférentiel à règle nue LIP 101, résolution de 0,02 µm |
1989 | Système de mesure linéaire interférentiel à règle nue LIP 301, résolution de 1 nm |
1992 | Système de mesure linéaire interférentiel à deux dimensions PP 109R |
2008 | Système de mesure linéaire interférentiel LIP 200 avec une période de signal de 0,512 µm, pour des vitesses de déplacement allant jusqu'à 3 m/s |
2010 | Système de mesure linéaire absolu à règle nue LC 4000 avec 2 pistes, |
2012 | Système de mesure linéaire absolu à une seule piste LIC 2100 |
| 2015 | Système de mesure linéaire interférentiel LIP 6000 de forme très compacte |
Historique des systèmes de mesure : les systèmes de mesure linéaire étanches
1952 | Systèmes de mesure linéaire optiques pour machines-outils |
1966 | Système de mesure linéaire incrémental cartérisé LIDA 55.6 avec ruban de mesure en acier |
1975 | Système de mesure linéaire incrémental LS 500 avec règle en verre, longueur de mesure jusqu'à 3 m, résolution de 10 µm |
1977 | Système de mesure linéaire incrémental LIDA 300, longueur de mesure jusqu'à 30 m |
1994 | Système de mesure absolu LC 181 avec 7 pistes, interface EnDat, longueur de mesure jusqu'à 3 m, résolution de 0,1 µm |
1996 | Système de mesure linéaire absolu LC 481 avec 2 pistes, code pseudo-aléatoire (PRC), EnDat, longueur de mesure jusqu'à 2 m |
2011 | Système de mesure linéaire absolu LC 200, longueur de mesure jusqu'à 28 m, code pseudo-aléatoire (PRC), résolution de 10 nm |
2014 | Système de mesure linéaire absolu LC xx5, longueur de mesure jusqu'à 4 m, résolution de 1 nm |
| 2015 | Système de mesure linéaire incrémental LP 100, longueur de mesure jusqu'à 3 m, résolution 31,25 pm |
Historique des systèmes de mesure : les systèmes de mesure angulaire
1952 | Systèmes de mesure angulaire optiques |
1957/1961 | Système de mesure angulaire photoélectrique ROD 1 avec 40 000 périodes de signale/tour, 10 000 traits |
1962 | ROD 1 avec 72 000 périodes de signal/tour |
1964 | Système de mesure angulaire ROC 15 / résolution 17 bits |
1975 | Système de mesure angulaire incrémental ROD 800, précision ± 1 seconde d'arc |
1986 | Système de mesure angulaire incrémental ROD 905, précision ± 0,2 secondes d'arc |
1997 | Système de mesure angulaire absolu avec accouplement statorique intégré RCN 723, 23 bits en simple tour, interface EnDat, précision de ± 2 secondes d'arc |
2000 | Système de mesure angulaire interférentiel ERP 880 avec 180 000 périodes de signal/tour, précision ± 0,2 secondes d'arc |
2004 | Système de mesure angulaire absolue RCN 727 avec un diamètre d'arbre creux allant jusqu'à 100 mm |
2009 | Système de mesure angulaire interférentiel ROP 8080, pour les équipements de test de wafers combinant un roulement de charge et un système de mesure angulaire, 360 000 périodes de signal/tour |
2011 | Système de mesure angulaire interférentiel miniaturisé ERP 1080 en version "Single-Chip-Encoder" |
Historique des systèmes de mesure : les capteurs rotatifs
1957/1961 | Capteur rotatif photoélectrique incrémental ROD 1 avec 10 000 traits |
| 1964 | Capteurs rotatifs standards incrémentaux des séries ROD 2 / ROD 4 |
1981 | Capteur rotatif incrémental ROD 426, standard de l'industrie |
1987 | Capteur rotatif multitours absolu ROC 221 S, 12 bits en simple tour, 9 bits en multitours |
1992 | Capteurs rotatifs incrémentaux encastrables ERN 1300 pour des températures de service jusqu'à 120°C |
1993 | Capteur rotatif simple tour absolu ECN 1300 et capteur rotatif multitours absolu EQN 1300 |
2000 | Capteur rotatif absolu multitours miniaturisé EQN 1100 avec technologie "Chip-On-Board" |
2000 | Capteur rotatif simple tour absolu ECN 100 avec un diamètre d'arbre creux allant jusqu'à 50 mm |
2004 | Capteur rotatif simple tour absolu miniaturisé ECI 1100 et capteur rotatif multitours absolu miniaturisé EQI 1100 (avec balayage inductif) |
2007 | Capteurs rotatifs absolus avec "Functional Safety" SIL2/PL d et interface EnDat 2.2 |
| 2012 | ERN 1387 doté d'un balayage incrémental amélioré par un nouvel ASIC de balayage |
| 2014 | Capteurs rotatifs absolus pour applications jusqu'à SIL3/PL e, interface EnDat 2.2 et exclusion d'erreur |
Les grandes étapes du développement des commandes et de l'électronique
1968 | Compteurs croissants/décroissants VRZ 59.4 pour 1 axe |
1974 | Visualisation de cotes numérique HEIDENHAIN 5041 |
1976 | Commandes numériques de positionnement TNC 110 et TNC 120 pour 3 axes |
1979 | Commandes numériques paraxiales TNC 131 / TNC 135 |
1981 | Commande numérique de contournage pour 3 axes TNC 145 |
1984 | Commande numérique de contournage pour 4 axes TNC 155, avec simulation graphique de l'usinage de la pièce |
1995 | Interface série synchrone EnDat pour systèmes de mesure de position absolus |
1996 | Commande numérique de contournage TNC 426 avec asservissement numérique des entraînements pour 5 axes |
1996 | Pack complet HEIDENHAIN TNC 410 MA avec variateurs et moteurs |
2004 | Commande numérique de contournage iTNC 530 avec smarT.NC comme mode de programmation alternatif |
2007 | Commande numérique de contournage TNC 620 avec HSCI, l'interface de contrôle série de HEIDENHAIN |
2011 | Commande numérique de contournage TNC 640 pour un usinage combinant fraisage et tournage |